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刘美君, 彭雨婷, 肖真仪, 周小辉, 简宇轩, 毛琳, 李辉. 温敏印迹柱对薯蓣皂素的选择保留和控制缓释[J]. 吉首大学学报(自然科学版), 2024, 45(1): 48-55.
LIU Meijun, PENG Yuting, XIAO Zhenyi, ZHOU Xiaohui, JIAN Yuxuan, MAO Lin, LI Hui. Selective Retention and Controlled Release Behavior of a Temperature-Sensitive Imprinted Polymer Monolith for Diosgenin[J]. Journal of Jishou University(Natural Sciences Edition), 2024, 45(1): 48-55.
以薯蓣皂素为模板,N-异丙基丙烯酰胺和α-甲基丙烯酸为混合功能单体制备1种温敏印迹聚合物,将其装填于不锈钢柱管中,在色谱模式下研究了温敏印迹柱对目标分子的保留和控制释放行为,同时探究了柱温、洗脱剂组成、pH值、离子强度等因素对分子印迹柱选择保留及控制释放的影响.结果表明,柱温对分子印迹材料的保留和控制释放具有显著影响.当色谱柱温为303 K时(临界温度附近),分子印迹柱对模板具有最强保留能力;当柱温高于或低于临界温度时,分子印迹柱的保留能力减弱,模板释放速率加快.洗脱液组成、pH值、离子强度也会影响印迹材料的保留和释放,在303 K柱温下,用0.001 mol/L缓冲液(pH值7.4)进行洗脱,释放时间高达1 050 min.