吉首大学学报(自然科学版) ›› 2022, Vol. 43 ›› Issue (2): 31-37.DOI: 10.13438/j.cnki.jdzk.2022.02.006
柏启明,黄兴友,薛慧丽,李洪毅
BAI Qiming,HUANG Xingyou,XUE Huili,LI Hongyi
摘要:为了研究三水平设计投影均匀性与设计效率的关系,在中心化L2-偏差度量下,建立了强度为2的三水平正交设计的均匀性模式与设计效率的解析联系,对于强度为3的三水平正交表,最小低阶投影均匀性准则与设计效率准则等价.对于三水平设计,获得了均匀性模式紧的下界,该下界可以衡量设计是否为最小低阶投影均匀设计.