journal6 ›› 2015, Vol. 36 ›› Issue (3): 32-34.DOI: 10.3969/j.cnki.jdxb.2015.03.008
杨红,全秀娥
YANG Hong, QUAN Xiu-E
摘要:理想的稀磁半导体具有良好的室温铁磁性,氮化铝(AlN)稀磁半导体虽然具有宽的带隙和透光性,但由实验重复性差等原因,一直未得到广泛的应用.采用基于密度泛函理论的第一性原理方法计算掺杂硼(B)的AlN中局域磁矩的变化规律.通过分析电子结构发现,掺杂B后的AlN稀磁半导体中出现了明显的局域磁矩,其大小为2 μB.